其實每次展覽都是認識自己、認識作品、認識空間，最快速的方式，
老實說，即使有過了幾次聯展的經驗，但還是常常對自己的作品呈現不滿意，甚至是不自在的，
可能是太需要恰到好處的空間質地了，
自己也常常失準，
好像每個細節都得好好掌控，才不會跟自己的想像有極大的偏差，
一旦空間過於壓縮，作品似乎就變得一文不值，畢竟自己的創作就很吃空間這套。
可有時，似乎連遵循作品圖最基本的方向，這件事，也常常被忽略。
遇過放反的，遇過左右並排擺成上下，也遇過作品尺寸打錯卻認為是我給錯，
好多好多，都是學一個經驗。
認真來說，那些就我看來，應該是基本尊重，
但或許也不是吧。
遇到這種事，都巴不得馬上把作品要回來，畢竟我自己都認不得自己的作品了，
過不了自己這關，就什麼都過不了。
隨便不來的，沒有鬆懈的餘地。
正好近期同時有兩個聯展在進行，深切感受到極大的差異，
一種是想立刻結束展覽，一種是期待展覽的進行，
我想，布展過程的時間區段，果真就是創作的一部分吧，
無法置身事外。
不知道有沒有誰發現，如果真的要給個頭銜，
我總是在藝術家旁邊加上個詩人。
（打字稱呼藝術家很容易，可說出來極度彆扭，總覺得很遠）
至於為什麼，可能要慢慢領會。
聚光，也總是對我作品來說，不適切，
他限縮了太多東西，黯淡了太多東西，拿走了太多東西。
雖然對某些事算是懶散的，隨興的，
面對作品，只有某種偏執吧，
怎麼包作品也是，怎麼整理作品資料也是，
還是
必須承認，
我的偏執在作品記錄上被壓抑了，我只有無數低像素搭配奇怪光源的作品紀錄....
但我的偏執會在某個時刻，讓我把作品全部拆開，重新紀錄重新建檔，
我也知道這是繞遠路。
往後，我會好好去攝影棚的。